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技術(shù)文章

電弱點(diǎn)測(cè)試儀擊穿后的電壓采集能解決什么問(wèn)題?

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  電弱點(diǎn)測(cè)試儀擊穿后的電壓采集能解決什么問(wèn)題?

 

電弱點(diǎn)測(cè)試儀采用的光耦隔離方式,但光耦與隔離無(wú)非是提高儀器的采集的抗干擾處理,對(duì)于電弧放電過(guò)程中的浪涌對(duì)控制系統(tǒng)的防護(hù)起不到任何作用。

 

電弱點(diǎn)測(cè)試儀測(cè)量準(zhǔn)確,復(fù)現(xiàn)性好。測(cè)試過(guò)程采用電子技術(shù)全自動(dòng)控制,遇到電弱點(diǎn)時(shí)電壓切斷動(dòng)作迅速。擊穿電流在040mA連續(xù)可調(diào),復(fù)現(xiàn)性好。本機(jī)具備多重保護(hù)功能,充分考慮了操作人員及設(shè)備的性。如過(guò)壓、過(guò)流、接地保護(hù),試驗(yàn)平臺(tái)門開(kāi)啟保護(hù)。

 

根據(jù)薄膜的使用寬度進(jìn)行電弱點(diǎn)的測(cè)試,測(cè)試寬度可根據(jù)用戶的要求而設(shè)定,無(wú)須將膜分切成小卷,免除了許多外來(lái)因素對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響。測(cè)試數(shù)據(jù)能真實(shí)地反映薄膜的質(zhì)量水平。有效設(shè)備的可靠性、耐用性和穩(wěn)定性。

 

無(wú)論是采用磁通門或霍爾原理所設(shè)計(jì)的傳感器存在材料產(chǎn)生弱點(diǎn)后后瞬間輸出電壓或電流信號(hào)過(guò)大,從而燒壞控制系統(tǒng)的采集部分。低濾波電流采集傳感器將高頻雜波信號(hào)進(jìn)行相應(yīng)處理。

 

采用雙系統(tǒng)互鎖技術(shù)應(yīng)用于電弱點(diǎn)測(cè)試儀器,電弱點(diǎn)測(cè)試儀器不僅具備過(guò)壓、過(guò)流保護(hù)系統(tǒng),雙系統(tǒng)互鎖機(jī)制,當(dāng)任何元器件出現(xiàn)問(wèn)題或單系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí),將瞬間切斷高壓。技術(shù),。

 

薄膜材料擊穿后,瞬間放電速度約為光速的1513,國(guó)際通用的方法為壓降法進(jìn)行采集擊穿電壓。即變壓器的初電壓瞬間下降一定比率來(lái)判別材料是否擊穿。顯然記錄擊穿電壓值產(chǎn)生偏差。而采用多循環(huán)采集技術(shù)對(duì)擊穿后的電壓采集將解決此難題。

 


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